我国的光刻机发展到什么地步了？

光刻机是半导体产业中最重要的设备，技术先进的还是由荷兰ASML公司生产，我国也有在研发生产光刻机，但技术水平还比较落后，无法满足现代芯片工艺要求。

目前我国能生产光刻机的企业有5家，最先进的是上海微电子装备有限公司，光刻机量产的芯片工艺是90纳米，目前正在向65纳迈进，因为90纳米是一个台阶，如果能过关，后面的65、45就很容易攻破，按照目前的发展速度，预计在2020年可以达到22纳米。

日本还有两家光刻机设备商佳能和尼康，佳能因为此项业务亏损，在2008年就退出了。而尼康的光刻机受到了英特尔的限制，新的制程不用尼康的光刻机，给了尼康沉重的打击以致衰败。现在只有荷兰ASML占统治地位，它们的工艺已经达到了7nm，还在研发5nm中，而我国的光刻机设备是90nm，65nm还在研发中。显而易见，我国的光刻机技术还有很大的差距。

2016年我国完成了“极紫外光刻技术”的验收，历经八年的研究成果终于换来了回报，这对于光刻技术具有里程碑的意义。极紫外光刻是最具有代表性的光刻技术，它是以13.49nm的EUV光来用作投影，比其它的投影光源更全面，是投影技术的临界点，获得这项技术对光刻机的提升起着很大的作用，计划在2030实现EUV光刻机量产。

虽然我国的光刻机技术落后，但一个小小的突破就会给我们很大的信心，也代表了中国企业在半导体行业发展的决心，期望早日突破光刻机技术难关，迎来中国芯。

转载请注明出处。